[发明专利]沉积设备的清洁方法在审

专利信息
申请号: 202010686677.0 申请日: 2020-07-16
公开(公告)号: CN111809165A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 陆振杰;郎玉红 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种沉积设备的清洁方法,用于清洁沉积设备,所述沉积设备包括反应腔及晶圆承载单元,所述晶圆承载单元通过移动进入或退出所述反应腔,包括以下步骤:在完成沉积工艺之后,所述晶圆承载单元退出所述反应腔;在所述晶圆承载单元上冷却及卸载已完成沉积工艺的晶圆并装载待作业的晶圆,同时对所述反应腔单独进行清洁作业。本发明的沉积设备的清洁方法,具有较短的清洁时间,可灵活利用反应腔的空闲时间进行清洁作业,对生产时间占用更少,能够提升生产效率的优点。本发明还能够延长反应腔的使用寿命和具有清洁成本低的优点。
搜索关键词: 沉积 设备 清洁 方法
【主权项】:
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