[发明专利]一种基于有机硫前驱体的金属硫化物薄膜及其制备方法有效
申请号: | 202010686717.1 | 申请日: | 2020-07-16 |
公开(公告)号: | CN111876748B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 王新炜;李豪 | 申请(专利权)人: | 北京大学深圳研究生院 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 徐凯凯 |
地址: | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明提供了一种基于有机硫前驱体的金属硫化物薄膜及其制备方法,通过采用原子层沉积技术将金属前驱体在惰性载气的存在下通入原子层沉积反应室,沉积一层金属单原子层,再以脉冲的方式向原子层沉积反应室通入有机硫前驱体,得到一层金属硫化物分子层,以形成一层分子层的过程为一个ALD周期,通过循环ALD周期,得到所述基于有机硫前驱体的金属硫化物薄膜。本发明的制备方法采用了有机硫化合物取代高毒性的H |
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搜索关键词: | 一种 基于 有机 前驱 金属 硫化物 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的