[发明专利]一种磁光调制器件和入射可见光的大相位差磁光调制方法在审
| 申请号： | 202010687531.8 | 申请日： | 2020-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN111913310A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 成会明;丁宝福;黄子阳;刘碧录 | 申请（专利权）人： | 清华-伯克利深圳学院筹备办公室 |
| 主分类号： | G02F1/09 | 分类号： | G02F1/09 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 张建珍 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种磁光调制器件和入射可见光的大相位差磁光调制方法，该磁光调制器件包括磁场发生器、透明主调制部件和辅助调制部件，磁场发生器设置为磁场方向与入射可见光光路垂直；透明主调制部件设于磁场内，其内部填充磁性二维材料分散液，其中的磁性二维材料光学带隙在2.0eV以上，饱和磁化强度1emu/g以上，径厚比10 |
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| 搜索关键词： | 一种 调制 器件 入射 可见光 相位差 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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