[发明专利]改善液相外延大尺寸石榴石单晶薄膜厚度均匀性的方法及采用该方法制得的单晶薄膜有效
| 申请号： | 202010690248.0 | 申请日： | 2020-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN111733450B | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李俊;陈运茂;燕志刚;魏占涛;游斌;姜帆;张平川;杨陆;蓝江河 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第九研究所 |
| 主分类号： | C30B19/00 | 分类号： | C30B19/00;C30B19/10;C30B29/28 |
| 代理公司： | 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙) 51235 | 代理人： | 黎仲 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种改善液相外延大尺寸石榴石单晶薄膜厚度均匀性的方法及采用该方法制得的单晶薄膜，属于薄膜材料技术领域，调整制备所述薄膜的原料中PbO‑B |
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| 搜索关键词： | 改善 外延 尺寸 石榴石 薄膜 厚度 均匀 方法 采用 法制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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