[发明专利]减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用在审

专利信息
申请号: 202010698729.6 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN111999785A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 晏柱;薛涛;王强 申请(专利权)人: 维达力实业(深圳)有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 潘艳丽
地址: 518129 广东省深圳市龙岗区坂田街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种减反射膜、制备方法、减反射光学制品及应用。该减反射膜包括交替层叠设置的低折射率膜层和高折射率膜层,低折射率膜层的折射率低于所述高折射率膜层;减反射膜的底部膜层和顶部膜层均为低折射率膜层;设置于顶部膜层下的高折射率膜层是氮化硅膜层,厚度为500nm~2000nm;减反射膜具有11GPa以上的纳米硬度,在400nm~700nm波段范围内的透光率在94%以上。上述减反射光学膜将位于顶部膜层下的高折射率膜层设计为氮化硅层,并大大增加其厚度,能够在保证透光率的前提下有效提高减反射光学制品的纳米硬度。
搜索关键词: 减反射膜 制备 方法 反射 光学 制品 应用
【主权项】:
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