[发明专利]一种投影基线密度补偿的三维多面体干涉成像方法及系统有效
| 申请号： | 202010711973.1 | 申请日： | 2020-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN111965650B | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 段然;邓丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院国家空间科学中心 |
| 主分类号： | G01S13/95 | 分类号： | G01S13/95;G06T3/40 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 陈琳琳;杨青 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影基线密度补偿的三维多面体干涉成像方法及成像系统，所述方法包括：选择一个基本平面及对应的南北天极建立天球坐标系；根据天球坐标系的纬度方向余弦，将天球平均划分为n个面天球区域；将三维基线转换到天球坐标系下，并投影于基本平面，得到二维基线；根据二维基线绘制维诺图，并计算得到密度补偿因子；针对天球的每一个面天球区域，根据对应的纬度方向余弦值，将三维基线对应的可见度函数通过相位补偿转换为二维基线对应的可见度函数；根据可见度函数和密度补偿因子，通过傅里叶变换得到每一个面天球区域的亮温分布；将每一个面天球区域的亮温分布拼接得到全天球亮温成像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 基线 密度 补偿 三维 多面体 干涉 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
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