[发明专利]等离子体处理装置和控制方法在审
| 申请号： | 202010716759.5 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN112309817A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 池田太郎;佐藤幹夫;镰田英纪 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种能够监视使用金属窗的电感耦合型的等离子体处理装置中等离子体的状态的等离子体处理装置和控制方法。基于本公开的一个方式的等离子体处理装置具备：主体容器；一个或多个高频天线，所述一个或多个高频天线用于使所述主体容器的内部的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体；多个金属窗，所述多个金属窗配置于所述等离子体生成区域与所述高频天线之间，所述多个金属窗与所述主体容器绝缘，并且所述多个金属窗彼此绝缘；以及等离子体检测部，其与所述多个金属窗的各个金属窗连接，用于检测生成的等离子体的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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