[发明专利]一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法有效
申请号: | 202010717980.2 | 申请日: | 2020-07-23 |
公开(公告)号: | CN112071731B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 康永锋;常飞浩;胡航锋;赵静宜 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H01J37/147 | 分类号: | H01J37/147;H01J37/153;H01J37/28;H01L21/66 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陈翠兰 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于维恩分析器校正二阶像差的设计方法,针对有偏转系统的存在时,此时沿着光轴附近将场函数做级数展开分析系统电子光学特性,能够分析因偏转带来的二阶像差。利用维恩分析器,通过给圆弧电极施加电压信号激励,让分析器产生所需的四极场,叠加在维恩分析器上。针对整个成像系统或检测系统,计算其光学特性,根据叠加四极场所计算的结果,控制调节加入四极场的方位角和激励强度,从而达到补偿系统因偏转带来的二阶像差。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 分析器 校正 二阶像差 设计 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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