[发明专利]超临界法包覆用30~80目NTO晶体缺陷快速测评方法有效

专利信息
申请号: 202010718860.4 申请日: 2020-07-23
公开(公告)号: CN111879750B 公开(公告)日: 2023-02-10
发明(设计)人: 贾林;蒋忠亮;刘文亮;张林军;顾妍;陈智群;张冬梅;于思龙 申请(专利权)人: 西安近代化学研究所
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65;G01N21/95
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人: 李郑建
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了超临界法包覆用30~80目NTO晶体缺陷快速测评方法。用显微拉曼光谱法随机测试10个NTO颗粒1104cm‑1处特征峰的半高峰宽,计算相对实验标准偏差RSD,排除仪器本身信号波动的影响,可以定量评价NTO晶体缺陷程度。用超临界法包覆NTO晶体制备PBX造型粉,最后泄压时,晶体缺陷较大的30目NTO晶体易破碎、粒度变小,会改变造型粉中NTO颗粒级配的比例。用本方法可筛选缺陷较少的NTO晶体,适用于超临界法包覆的PBX造型粉,压制出合格的PBX药柱。
搜索关键词: 临界 法包覆用 30 80 nto 晶体缺陷 快速 测评 方法
【主权项】:
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