[发明专利]一种异质衬底上的薄膜结构及其制备方法有效
| 申请号： | 202010719062.3 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN111883649B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 欧欣;陈阳;黄凯;赵晓蒙;鄢有泉;李忠旭 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | H01L41/253 | 分类号： | H01L41/253;H01L41/312;H01L21/67;H01L21/683;H01L41/08;H01L41/083 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;贾允 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜材料技术领域，特别涉及一种异质衬底上的薄膜结构及其制备方法，包括：提供键合体，键合体包括异质衬底层和键合于异质衬底层上的薄膜材料基板层，薄膜材料基板层中具有缺陷层；获取预设剥离应力，所述预设剥离应力为在第一退火温度时所述薄膜材料基板层中所述缺陷层处的第一最大热应力；在第一退火温度条件下，对键合体进行退火处理，使薄膜材料基板层以预设剥离应力沿缺陷层开始剥离；在剥离过程中，通过调整退火温度控制薄膜材料基板层以预设剥离应力沿缺陷层剥离，至得到异质衬底上的薄膜结构。本发明能够有效降低热应力差异对薄膜剥离厚度的影响，提高异质衬底上薄膜结构的厚度均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衬底 薄膜 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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