[发明专利]一种具有高耐磨性与抗辐照性能的二硫化钼/钇稳定氧化锆复合薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202010719235.1 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN111663110B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 王鹏;程勇;段泽文;赵晓宇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所;中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/58;C23C14/02 |
| 代理公司： | 兰州智和专利代理事务所(普通合伙) 62201 | 代理人： | 张英荷 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种具有高耐磨性和抗辐照性能的二硫化钼/钇稳定氧化锆复合薄膜（MoS |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 耐磨性 辐照 性能 二硫化钼 稳定 氧化锆 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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