[发明专利]用于服装图像特定相关区域的风格迁移模型及方法在审
| 申请号： | 202010721195.4 | 申请日： | 2020-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN112017301A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 陈佳;董学良;胡新荣;何儒汉 | 申请（专利权）人： | 武汉纺织大学 |
| 主分类号： | G06T19/00 | 分类号： | G06T19/00;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 武汉泰山北斗专利代理事务所(特殊普通合伙) 42250 | 代理人： | 程千慧 |
| 地址： | 430073 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于服装图像特定相关区域的风格迁移模型及方法，本发明利用注意力机制和循环生成对抗网络相结合，可实现以下两个目标：(1)在复杂背景和光照变化的服装图像中，实现对特定的局部区域以及相关区域的控制，而且避免风格迁移区域边界伪影。(2)对选择的局部以及相关区域实现无需配对的服装图像风格迁移。我们提出了一个融合注意力机制和循环生成对抗网络的服装特定相关区域风格迁移模型，其中循环生成对抗网络负责服装图像局部以及相关区域无配对的风格迁移。在模型的核心，本申请设计了一种嵌入注意力机制的生成器架构，以实现对服装图像特定局部区域以及相关区域的控制，实现风格迁移边缘区域的平滑效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 服装 图像 特定 相关 区域 风格 迁移 模型 方法 | ||
【主权项】：
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