[发明专利]一种制备强韧化非晶碳基多相杂化薄膜的装置及方法有效

专利信息
申请号: 202010723691.3 申请日: 2020-07-24
公开(公告)号: CN111850484B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 周兵;刘竹波;吴玉程;黑鸿君;高洁;吴艳霞;王永胜;于盛旺 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/06;C23C14/56
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 申艳玲
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明公开了一种制备强韧化非晶碳基多相杂化薄膜的装置及方法。该装置为射频磁控溅射辅助直流和脉冲阴极电弧多激发源等离子体镀膜装置,制备方法包括:将预处理后的基体烘干,放置于多激发源等离子体镀膜装置的旋转样品台上;抽真空,通入氩气到真空室,采用离子源对基体表面进行溅射清洗;分别以高纯金属铝、钛和石墨片作为磁控溅射靶材、直流和脉冲阴极电弧的蒸发靶材,通入氩气和氮气,根据纳米晶和非晶相形成规律设计多相杂化薄膜结构,调节样品台转速,采用多激发源等离子体技术引入功能掺杂元素和梯度中间层制备非晶碳基多相杂化薄膜。本发明制备的非晶碳基多相杂化薄膜结构可调、相组成分布可控,具有高硬度、高粘附强度和强韧性。
搜索关键词: 一种 制备 强韧 化非晶碳 基多 相杂化 薄膜 装置 方法
【主权项】:
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