[发明专利]一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机

摘要

本发明涉及一种低辐射玻璃制备用真空磁控溅射镀膜机，包括底座，底座上设有呈并排布置的氩离子辐射室与磁控溅射室，氩离子辐射室的前侧设有进料口，磁控溅射室的后侧设有出料口，氩离子辐射室与磁控溅射室之间设有输送口；底座的前部设有放卷机构，底座的后部设有收卷机构，氩离子辐射室内安装有氩离子辐射机构，氩离子辐射机构包括氩离子激光器与水平移动架，水平移动架的底面设有一排氩离子枪，氩离子枪与氩离子激光器通过激光电缆线连接；氩离子枪安装在输送皮带的上方；磁控溅射室的内部设有磁控溅射壳，磁控溅射壳的底面设有磁控溅射枪，磁控溅射枪安装在输送皮带的上方；磁控溅射室的顶部设有真空泵。本发明大大提高了镀膜的效率。