[发明专利]一类沿短轴修饰的芘基衍生物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010727631.9 申请日: 2020-07-27
公开(公告)号: CN111848413B 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 于泽栋;庞子金;曾照轩;赵文暄;王传增;大和武彦 申请(专利权)人: 山东理工大学
主分类号: C07C211/48 分类号: C07C211/48;C07C209/68;C07C221/00;C07C223/06;C09K11/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 255086 山东省淄*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及有机光电材料领域,公开了一类沿短轴修饰的芘基衍生物及其制备方法和应用。本发明提供的芘基衍生物制备策略,是在芘的1‑,3‑位沿短轴方向引入不同电子性质、刚性结构的取代基团,通过形成分子内电荷转移态实现对分子材料光电性能的可控调节。进而达到改善光电器件性能的目的:通过在短轴方向上引入不同基团实现芘的不对称官能化,构筑推拉型分子诱发分子内电荷转移,提高材料分子的电荷传输能力,制备高效的发光材料。极大地拓宽了芘基光电材料的发展空间和设计思路。
搜索关键词: 一类 沿短轴 修饰 衍生物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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