[发明专利]一种清洗半导体零部件的装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010729166.2 申请日: 2020-07-27
公开(公告)号: CN113751409A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 陈如明;陈彩丽;卜庆磊 申请(专利权)人: 英迪那米(徐州)半导体科技有限公司
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B08B3/12;B08B3/08;B08B3/04;H01L21/67;B08B9/087
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 徐小淇
地址: 221600 江苏省徐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种清洗半导体零部件的装置及方法,包括清洗壳体、溢流壳体、挡板、第一液压气缸、第一伸缩杆、网孔支撑板、半导体零部件、第二液压气缸、第二伸缩杆、清洁刷、搅拌组件以及超声波清洗机,第一伸缩杆的上端与第一液压气缸的输出端连接,第一伸缩杆的下端之间设有网孔支撑板,清洗壳体下方两端设有第二液压气缸,第二液压气缸上方设有第二伸缩杆,第二伸缩杆靠近上端靠近清洗壳体内壁一侧设有清洁刷,清洗壳体内部设有超声波清洗机,清洗壳体内部下方设有搅拌组件。本发明通过搅拌组件中的搅拌叶片使清洗液相对半导体零部件运动,配合超声波清洗机对半导体零部件进行清洁,使清洁下来的碎屑脱离半导体零部件表面。
搜索关键词: 一种 清洗 半导体 零部件 装置 方法
【主权项】:
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