[发明专利]立式批处理炉组件在审
| 申请号： | 202010735942.X | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN112309938A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | C.G.M.德里德 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于处理晶片的立式批处理炉组件，其包括盒操纵空间、晶片操纵空间以及分隔盒操纵空间和晶片操纵空间的内壁。盒操纵空间设置有配置成存储设置有多个晶片的多个晶片盒的盒存储器。盒操纵空间还设置有配置成在盒储存器和晶片传送位置之间传送晶片盒的盒操纵器。晶片操纵空间设置有配置成在晶片传送位置的晶片盒与晶片舟传送位置的晶片舟之间传送晶片的晶片操纵器。内壁在邻近晶片传送位置处设有晶片传送开口，用于将晶片盒从该晶片传动开口传送或传送到晶片传送开口。盒存储器包括两个盒存储转盘。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 批处理 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
