[发明专利]一种中心进气的调制电弧离子镀装置有效
| 申请号： | 202010736213.6 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN112030116B | 公开（公告）日： | 2022-11-29 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌;刘伟;陈智杰;黄志宏 | 申请（专利权）人： | 温州职业技术学院 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人： | 朱海晓 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于涉及电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域，具体涉及一种中心进气的调制脉冲电弧离子镀装置，包括阴极盖和阴极座，所述阴极盖和阴极座相连接形成阴极组件，所述阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部，所述靶材安装部上连接有靶材，所述靶材中心处设有第一通孔，所述阴极座上设有连通第一通孔的第二通孔，所述阴极盖上设有连通第二通孔的第三通孔，所述第一通孔、第二通孔、第三通孔形成进气管路。本发明采用中心通气实现工艺气体从靶材中心进入，增大沉积化合物相的能量，优化涂层结构，降低弧光放电的熔池大小，抑制大颗粒的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中心 调制 电弧 离子镀 装置 | ||
【主权项】：
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