[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法在审
| 申请号： | 202010737423.7 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN112305872A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 西川原朋史;关美津留;矢田裕纪;远藤淳生 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。该光学装置具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持第1光学元件及第2光学元件；气体供给部，朝向设置于保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由气体供给部供给的气体，在该光学装置中，在第1光学元件和第2光学元件的排列方向上并排地配置气体排出部。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 投影 光学系统 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010737423.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
