[发明专利]一种原子层沉积镀膜设备的化学源导入系统

摘要

本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种原子层沉积镀膜设备的化学源导入系统，所述化学源导入系统包括若干化学源导入管路和阀座底板，所述若干化学源导入管路通过气体导入法兰安装在所述阀座底板上，在所述阀座底板上设置有阀座底板加热器，位于所述气体导入法兰真空侧的所述化学源导入管路的外围另设置有真空侧加热器；所述阀座底板加热器和所述真空侧加热器联合对所述化学源导入管路进行多段加热。本发明的优点是：实现多种化学源的同时导入，并且不会造成冷凝；对每种化学源进行多段式加热，进一步缩短工艺循环的时间；保证原子层沉积镀膜工艺成膜效果，避免产品存在成膜颗粒的问题，提高产品质量。