[发明专利]基于微增减材同步复合制造金刚石微光栅的方法及装置有效
申请号: | 202010743211.X | 申请日: | 2020-07-29 |
公开(公告)号: | CN111850507B | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 崔雨潇;戚厚军 | 申请(专利权)人: | 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心) |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/56;C23C16/02;B23K26/362 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 杜文茹 |
地址: | 300222 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 基于微增减材同步复合制造金刚石微光栅的方法及装置,方法是对金刚石薄膜试样表面进行预处理去除表面杂质;在金刚石薄膜试样表面进行低温热丝CVD金刚石沉积,同时在CVD金刚石薄膜表面进行图形化微加工,得到金刚石微光栅。装置有用于进行低温热丝CVD金刚石沉积的低温热丝CVD金刚石沉积系统,用于进行图形化微加工的激光刻蚀系统,低温热丝CVD金刚石沉积系统有上端形成有光学窗口的真空反应腔室,真空反应腔室内设置有工作台,真空反应腔室外部设置有供气系统,工作台上设置有用于激发反应气体和加热金刚石薄膜试样的加热丝加系统。本发明实现了微增材加工和微减材加工的时空同步复合,并实现金刚石在非刻蚀区域的持续原位生长。 | ||
搜索关键词: | 基于 增减 同步 复合 制造 金刚石 微光 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心),未经天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010743211.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的