[发明专利]改善亮场缺陷检测精度及其过程中因色差导致杂讯的方法在审
| 申请号： | 202010751385.0 | 申请日： | 2020-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN111862076A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 张思琦 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/11;G06T7/90 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 张彦敏 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及改善亮场缺陷检测过程中因色差导致杂讯的方法，涉及半导体集成电路制造技术，对于位于晶圆边缘的芯片单元，选择位于晶边与晶圆面内半径r1覆盖的圆形区域之间的位于晶圆边缘的弧形区域内的相距最近的至少两芯片单元，其中的一芯片单元为被检测芯片单元，其它芯片单元为参考芯片单元，计算被检测芯片单元与参考芯片单元的灰度差值，获取被检测芯片单元的缺陷信息，进而获得位于弧形区域内的所有芯片单元的缺陷信息，如此由于弧形区域内的芯片单元位于同一半径区域，工艺波动对该弧形区域内的芯片单元的影响相差不大，则不会因工艺波动导致选取的芯片单元的灰度差也即色差较大，进而提高缺陷有效检出率。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 缺陷 检测 精度 及其 过程 色差 导致 杂讯 方法 | ||
【主权项】：
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