[发明专利]光电探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010751994.6 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111863984B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 张博健;王亮;王方莉;郭松坡 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/0216;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 姚璐华
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种光电探测器及其制作方法,所述光电探测器包括:衬底;设置在所述衬底上的缓冲层;设置在所述缓冲层远离所述衬底一侧的波导层;设置在所述波导层远离所述缓冲层一侧的渐变光学匹配层;设置在所述渐变光学匹配层远离所述波导层一侧的吸收层和阴极;设置在所述吸收层远离所述渐变光学匹配层一侧的包层;设置在所述包层远离所述吸收层一侧的接触层;设置在所述接触层一侧的阳极;其中,所述渐变光学匹配层为单层薄膜,在第一方向上,所述渐变光学匹配层的折射率逐渐增大;所述第一方向由所述波导层指向所述吸收层。应用本发明提供的技术方案,可以实现提前聚焦,提高耦合效率,降低器件工艺难度,降低成本。
搜索关键词: 光电 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
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