[发明专利]一种碳化硅外延设备原位监测系统及监测方法在审
申请号: | 202010753383.5 | 申请日: | 2020-07-30 |
公开(公告)号: | CN111948177A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 肖永能 | 申请(专利权)人: | 季华实验室 |
主分类号: | G01N21/47 | 分类号: | G01N21/47 |
代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 陈志超;黄家豪 |
地址: | 528200 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种碳化硅外延设备原位监测系统及监测方法,所述碳化硅外延设备原位监测系统包括:光路结构、光学探测模块、转速探测模块、信号处理模块。所述碳化硅外延设备原位监测系统,可以在1000‑1500rpm的高转速下,在SiC外延生长的原位实现对晶圆表面薄膜生长状态的实时监测并向SiC外延设备提供反馈信号进行实时的外延生长控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 外延 设备 原位 监测 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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