[发明专利]GH4720Li合金盘件锻后控温冷却方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010755754.3 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN111872292B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 史玉亭;曲敬龙;杜金辉;孟令胜;安腾;谷雨;毕中南;秦鹤勇 申请(专利权)人: 北京钢研高纳科技股份有限公司;钢铁研究总院
主分类号: B21J1/06 分类号: B21J1/06;B21J5/02;B21K1/32;B21K29/00;B21K31/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘建荣
地址: 100000 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种GH4720Li合金盘件锻后控温冷却方法和应用,涉及镍基高温合金加工领域,GH4720Li合金盘件锻后控温冷却方法包括以下步骤:将等温模锻得到的GH4720Li合金盘锻件进行空冷,空冷至650℃‑800℃,冷却时间为10‑20min;对空冷后的GH4720Li合金盘锻件以0.005‑0.015℃/s的冷速冷却至室温。GH4720Li合金盘件在锻后冷却过程中使用该控温冷却方法,可获得晶粒度细小(晶粒度8级或更细)、γ′强化相分布均匀的组织。
搜索关键词: gh4720li 合金 盘件锻后控温 冷却 方法 应用
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