[发明专利]光合成反应装置、膜电极的制作方法在审
| 申请号： | 202010764121.9 | 申请日： | 2020-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN111926344A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 冯德强;姚伟;张策;姜文君;李龙;宋坚 | 申请（专利权）人： | 中国空间技术研究院 |
| 主分类号： | C25B3/04 | 分类号： | C25B3/04;C25B9/10;C25B11/08;C25B11/06;C25B11/03;C23C14/24;C23C14/18;C23C14/16;C25D11/26;C25B11/10;C25B11/12 |
| 代理公司： | 北京善任知识产权代理有限公司 11650 | 代理人： | 张振伟 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光合成反应装置、膜电极的制作方法，所述装置包括：微通道反应区域载体，设置有串联联通或并联联通的第一沟道；第一沟道的两端分别设置有第一反应介质进口和第一反应介质出口；膜电极，包括离子交换膜、阳极电极材料、阴极电极材料，阳极电极和材料阴极电极材料分别热压于离子交换膜的两侧；阳极基板，阳极基板的第一面上设置有容置槽，微通道反应区域载体容置于容置槽内时，微通道反应区域载体设置有第一沟道的一侧在第一面显露；阴极基板，阴极基板的第二面设置有与微通道反应区域载体上第一沟道匹配的第二沟道；将膜电极夹设于阳极基板和阴极基板之间，阳极电极材料与第一沟道贴置，阴极电极材料与第二沟道贴置。 | ||
| 搜索关键词： | 合成 反应 装置 电极 制作方法 | ||
【主权项】：
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