[发明专利]一种单晶热释电薄膜多元红外传感器件的制备方法有效
申请号: | 202010765348.5 | 申请日: | 2020-08-03 |
公开(公告)号: | CN111933749B | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 罗文博;李茂荣;张开盛;帅垚;吴传贵;张万里 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/101;G01J5/35 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 闫树平 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于红外传感器的研究领域,涉及一种单晶热释电薄膜多元红外传感器件的制备方法。本发明选用NiCr合金作为上电极和吸收层时的同时,利用“单晶热释电薄膜与NiCr合金膜的刻蚀速率差异”将其作为刻蚀掩膜实现多元红外传感器件的制备。本方法仅需一次光刻即可完成多元器件的微细加工,减少单晶薄膜多元器件光刻次数,避免了多次光刻中光刻胶均匀性、对准精度控制等难题;单晶薄膜刻蚀完成后剩余的NiCr合金膜用作上电极和吸收层,无需去除;并且通过干法刻蚀使NiCr合金膜产生粗化效应,减少其对红外光的反射作用,提高NiCr合金膜对红外辐射的吸收,进而提高器件性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 单晶热释电 薄膜 多元 红外传感器 制备 方法 | ||
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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