[发明专利]一种改善环行器/隔离器铁氧体基片与中心导体同心度的排片工装及工艺在审
申请号: | 202010766609.5 | 申请日: | 2020-08-03 |
公开(公告)号: | CN111740195A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 奉林晚;刘源;张建伟;夏瑞青;张晋诚 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第九研究所 |
主分类号: | H01P1/36 | 分类号: | H01P1/36;H01P1/38;H01P11/00 |
代理公司: | 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙) 51235 | 代理人: | 黎仲 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种改善环行器/隔离器铁氧体基片与中心导体同心度的排片工装,属于微波元器件装配技术领域,包括螺杆(1)、下挡块(2)、定位块(3)、下冲头(4)和上挡块(6),还公开了采用上述工装进行排片的工艺,包括将排片工装的螺杆(1)旋出至下冲头(4)与下挡块(2)接触、将数个待装配的单元组放入定位块(3)的定位槽(31)中、旋紧螺杆和点胶等步骤;采用本发明的排片工装和工艺,大幅改善了批量环行器/隔离器产品的基片与中心导体的同心度一致性;改善了环行器/隔离器产品的三端电路匹配不一致的问题,且流程简单,操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 环行器 隔离器 铁氧体 中心 导体 同心 工装 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第九研究所,未经中国电子科技集团公司第九研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010766609.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。