[发明专利]一种降低LDS工艺中化镀层粗糙度的化学镀液、方法及化学镀滚筒

摘要

本发明公开了一种降低LDS工艺中化镀层粗糙度的方法，包括如下步骤：提供一基板；激光活化处理，利用LDS技术对所述基板的表面进行激光活化，得到导电区域；化学镀，将经过激光活化处理的待镀基板置于装有化学镀液的滚筒内，于导电区域形成化镀层，化学镀液中添加有研磨颗粒，同时对化镀层进行打磨，降低化镀层的表面粗糙度，本发明提供的一种降低LDS工艺中化镀层粗糙度的方法，将产品置于滚筒中进行化学镀时，由于化学镀液中添加有研磨颗粒，进行化学镀时，研磨颗粒与化镀层之间进行摩擦，通对化镀层的表面进行打磨，降低化镀层的表面粗糙度，同时操作简单，也无需增加过高的生产成本。