[发明专利]光刻胶用含氟聚合物、包含其的顶部抗反射膜组合物及其在光刻胶中的应用

摘要

本发明涉及光刻胶用含氟聚合物、包含其的顶部抗反射膜组合物及其在光刻胶中的应用。该光刻胶用含氟聚合物的结构式如下：CF2(CF3)CF2‑[O‑CF(CF3)CF2]n‑O‑CF(CF3)COO‑R，其中，n在1‑8的范围内，R为H、NH4或其他类似结构中的一种或者几种；以整个聚合物重量计，其中数均分子量小于550的聚合物组分的含量a为0‑12％；数均分子量为650‑900的聚合物组分的含量b为75％‑90％；数均分子量为980‑1050的聚合物组分的含量c为5％‑15％；数均分子量大于1150的聚合物组分的含量d为0‑10％，a和d同时为0或任一个为0或同时不为0。本发明通过控制含氟聚合物中不同分子量的聚合物组分的含量分布，得到满足本发明特定组成要求的含氟聚合物，该含氟聚合物易降解，低毒性，环境友好，能够用于制备具有较低折射率的顶部抗反射膜。