[发明专利]一种近壁流场的平面激光散射成像系统及方法在审

专利信息
申请号: 202010772745.5 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN111964863A 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 田立丰;丁浩;郭美琦 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: G01M9/00 分类号: G01M9/00;G01M9/06
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 李思坪
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种近壁流场的平面激光散射成像系统及方法,该系统包括控制模块、光源模块和成像模块,所述控制模块、光源模块和成像模块两两相连,所述光源模块包括激光器、光臂和透镜组,所述激光器与控制模块连接,所述激光器、光臂和透镜组依次连接,所述成像模块包括实验模型、凸透镜、带圆孔的挡光板和CCD相机,所述实验模型安装在透镜组下方,所述带圆孔的挡光板安装在凸透镜靠近CCD相机一侧的第一焦平面处,所述CCD相机与控制模块连接。通过使用本发明,能够避免近壁区域模型反射光对成像的干扰,提高成像的信噪比。本发明作为一种近壁流场的平面激光散射成像系统及方法,可广泛应用于散射成像领域。
搜索关键词: 一种 近壁流场 平面 激光 散射 成像 系统 方法
【主权项】:
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