[发明专利]一种电致发光器件工况原位分析系统及分析方法有效
| 申请号： | 202010773243.4 | 申请日： | 2020-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN112067963B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 邓云洲;金一政 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01R31/26 | 分类号： | G01R31/26;G01R31/265 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 彭剑;胡红娟 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电致发光器件工况原位分析系统及分析方法，其中，系统包括激发光路部分、电激发源部分、收集光路部分、信号探测和解析部分、频率调制和同步部分，以及仪器机械控制部分。本发明的系统是多模式、多维度、多尺度的，将多种先进光谱学测试、锁相放大技术、半导体器件电学测试、自动化二维位移系统、显微镜系统与仪器控制系统等有机结合，有助于直接揭示器件的能量损失途径、单分子层面工作机制与器件老化机制，并指导未来材料化学和器件结构创新。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电致发光 器件 工况 原位 分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
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