[发明专利]光刻胶用含氟聚合物、包含其的顶部抗反射膜组合物及其在光刻胶中的应用在审
| 申请号： | 202010773715.6 | 申请日： | 2020-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN112034683A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 李永斌 | 申请（专利权）人： | 甘肃华隆芯材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C07C51/58;C07C51/04;C07C59/315;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 | 代理人： | 彭随丽 |
| 地址： | 730900 甘肃省白银市白银区兰包路33*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻胶用含氟聚合物、包含其的顶部抗反射膜组合物及其在光刻胶中的应用。该光刻胶用含氟聚合物的结构式如下：CF2(CF3)CF2‑[O‑CF(CF3)CF2]n‑O‑CF(CF3)COO‑R，其中，n在1‑8的范围内，R为H、NH4或其他类似结构中的一种或者几种；以整个聚合物重量计，其中n≦1的聚合物组分的含量a为0‑12％，n为2的聚合物组分的含量b为55‑80％，n为3的聚合物组分的含量c为15‑30％，n为4的聚合物组分的含量d为0‑15％，n≥5的聚合物组分的含量e为0‑8％，且b+c≥80％，a、d和e同时为0或任一个为0或同时不为0。本发明通过控制含氟聚合物中不同分子量的聚合物组分的含量分布，得到满足本发明特定组成要求的含氟聚合物，该含氟聚合物易降解，低毒性，环境友好，能够用于制备具有较低折射率的顶部抗反。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶用含氟 聚合物 包含 顶部 反射 组合 及其 中的 应用 | ||
【主权项】：
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