[发明专利]用于CVD设备的方法及相应的CVD设备

摘要

本发明提供用于CVD设备的方法及相应的CVD设备。所述方法首先将托盘的温度控制成不高于第一预设温度，并将完成制绒清洗的硅片放置到所述托盘中；然后将承载有硅片的托盘传送至CVD设备的CVD反应腔，并在所述CVD反应腔中通过CVD工艺在硅片上形成CVD膜；接着将承载有完成CVD工艺的硅片的托盘传送出CVD反应腔。本发明能有效抑制太阳能电池制造中因托盘温度过高导致的硅片边缘氧化及电池黑边现象，能有效提高电池良率和推动太阳能电池的量产化进程。