[发明专利]一种紫外双折射晶体制备方法及用途有效
| 申请号： | 202010780617.5 | 申请日： | 2020-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN111910250B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 吕宪顺;张园园;邱程程;王旭平;刘冰;杨玉国;安业同 | 申请（专利权）人： | 齐鲁工业大学;山东省科学院新材料研究所 |
| 主分类号： | C30B29/10 | 分类号： | C30B29/10;C30B11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明涉及双折射晶体领域，尤其涉及一种新型紫外双折射晶体SrxBa2‑xMg(BO3)2的制备及用途。一种可用于紫外、深紫外波段的硼酸盐双折射晶体，所述晶体分子式为SrxBa2‑xMg(BO3)2(x＝0.05‑0.2)，属于三方晶系， |
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| 搜索关键词： | 一种 紫外 双折射 晶体 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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