[发明专利]一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置在审

专利信息
申请号: 202010783901.8 申请日: 2020-08-06
公开(公告)号: CN111893573A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 周旺 申请(专利权)人: 昆山盛睿杰机电科技有限公司
主分类号: C30B33/12 分类号: C30B33/12;C30B29/06
代理公司: 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 代理人: 王利斌
地址: 215000 江苏省苏州市昆山*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种传感器单晶硅刻蚀过程中的片架定位装置,包括反应室,所述反应室顶部贯通固定设有进气管,所述进气管一端部贯通固定连接有气源室,所述反应室一侧底部贯通固定设有出气管,所述出气管一端部固定连接有真空泵,所述反应室底部固定设有驱动电机,通过设置驱动电机,驱动电机可以带动主动皮带轮旋转,主动皮带轮可以通过皮带带动从动皮带轮旋转,从动皮带轮可以通过轴杆带动凸形转盘旋转,进而可以带动片架旋转,可以增加单晶硅与等离子体的接触均度,伸缩定位杆可以对定位圆环进行支撑固定,通过旋转螺纹筒调节伸缩定位杆的长度即可,便于拆卸固定,适合不同直径的反应室使用,套筒通过固定螺栓固定在片架顶部外侧,方便拆卸安装。
搜索关键词: 一种 传感器 单晶硅 刻蚀 过程 中的 定位 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山盛睿杰机电科技有限公司,未经昆山盛睿杰机电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010783901.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top