[发明专利]抗等离子体腐蚀的稀土氧化物基薄膜涂层有效
| 申请号： | 202010788490.1 | 申请日： | 2014-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111900084B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | J·Y·孙;B·P·卡农戈;V·菲鲁兹多尔;T·赵 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/308 | 分类号： | H01L21/308;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及抗等离子体腐蚀的稀土氧化物基薄膜涂层。制品包含主体和至少一个保护层，所述保护层位于所述主体的至少一个表面上。所述至少一个保护层是具有小于约20微米的厚度、并包含陶瓷的薄膜，所述陶瓷选自由以下各项组成的组：Y |
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| 搜索关键词： | 等离子体 腐蚀 稀土 氧化物 薄膜 涂层 | ||
【主权项】：
暂无信息
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