[发明专利]包括考虑样本内光学路径长度变化的光学检查系统和方法在审
申请号: | 202010795936.3 | 申请日: | 2015-12-22 |
公开(公告)号: | CN111929280A | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | M·A·特雷尔;M·A·阿伯雷 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | G01N21/49 | 分类号: | G01N21/49 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘玉洁 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请涉及包括考虑样本内光学路径长度变化的光学检查系统和方法。照明器/收集器组件可将入射光递送到样本并且收集从样本返回的返回光。传感器可根据所收集的返回光的光线位置和光线角度来测量光线强度。光线选择器可从传感器处的所收集的返回光选择满足第一选择标准的第一子组光线。在一些示例中,该光线选择器可将光线强度聚合成箱,每个箱对应于所收集的返回光中的在样本内穿过相应光学路径长度范围内的估计光学路径长度的光线。表征器可基于第一子组光线的光线强度、光线位置和光线角度来确定样本的物理属性诸如吸收率。考虑在样本内穿过的光学路径长度的变化可改善准确性。 | ||
搜索关键词: | 包括 考虑 样本 光学 路径 长度 变化 检查 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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