[发明专利]一种负反馈型单光子雪崩光电二极管及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010796541.5 申请日: 2020-08-10
公开(公告)号: CN111916526A 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 陈伟;高新江;赵江林;刘昆;敖天宏;蒋利群;罗洪静;张承;陈扬;黄晓峰 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 王海军
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及半导体光电子技术领域,具体涉及一种负反馈型单光子雪崩光电二极管及其制作方法,包括:衬底、缓冲层、吸收层、渐变层、电荷层和帽层,衬底下方设置有入射光窗和N电极,N电极对称分布在入射光窗周围;衬底上方依次设置缓冲层、吸收层、渐变层、电荷层和帽层;帽层上设置有阶梯结构P型掺杂区,P型掺杂区上生长有P电极;帽层上表面设置有介质膜,介质膜的中部设置有半封闭回旋环状结构的负反馈电阻,介质膜上设置有焊盘,负反馈电阻一端与P电极相连,另一端与焊盘相连。本发明能够实现单光子雪崩光电二极管SPAD盖革雪崩的快速淬灭、快速恢复,提升SPAD的光子探测速率、降低后脉冲效应,且具备到达时间不预测光子探测功能。
搜索关键词: 一种 负反馈 光子 雪崩 光电二极管 及其 制作方法
【主权项】:
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