[发明专利]通过刻蚀后生长纳米粒子制备复合纳滤膜的方法有效

专利信息
申请号: 202010798832.8 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN111939774B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 邵路;郭靖;张艳秋 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B01D71/56 分类号: B01D71/56;B01D69/12;B01D67/00;B01D61/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明涉及一种通过刻蚀后生长纳米粒子制备复合纳滤膜的方法,包括如下步骤:步骤一、酸刻蚀聚酰胺纳滤膜:将聚酰胺纳滤膜浸泡在酸溶液中,然后取出并用去离子水浸泡清洗;步骤二、纳米粒子在聚酰胺层中原位生长:将清洗后的聚酰胺纳滤膜,浸泡在由硝酸铜溶液和均苯三甲酸溶液混合而成的溶液体系中,然后取出并用溶剂冲洗,得到含纳米粒子的复合纳滤膜。本方法制备的纳滤分离膜中,纳米粒子可以填充并撑开聚酰胺层,使其变得疏松,从而使所制备的分离膜对有机溶剂的渗透通量大幅度提高。
搜索关键词: 通过 刻蚀 生长 纳米 粒子 制备 复合 滤膜 方法
【主权项】:
暂无信息
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