[发明专利]成像质量分析数据处理方法以及成像质量分析装置在审
| 申请号： | 202010799402.8 | 申请日： | 2014-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN111952145A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 池上将弘;梶原茂树 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | H01J49/00 | 分类号： | H01J49/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供成像质量分析数据处理方法以及成像质量分析装置，简化进行统计解析以比较从多个试样分别得到的成像质量分析数据的作业，提高该解析的精度。在想比较的两个试样的成像质量分析数据的测量点间隔不同、还想比较物质的空间分布扩展的尺寸时，以一个数据为基准重新定义另一个数据的测量点间隔以使测量点间隔一致，通过基于实际测量点的质谱的内插或外插求出设定的虚拟测量点的质谱。在各试样的质谱的m/z值阵列不同时，以一个数据的质谱的m/z值的位置为基准对另一个数据的质谱通过内插或外插求出基准m/z值的强度值。使测量点间隔、m/z值阵列一致而能够整合数据，作为一个成像质量分析数据进行处理而能简单地进行峰值矩阵制作等处理。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 质量 分析 数据处理 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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