[发明专利]版图图形密度的分析方法在审
| 申请号： | 202010802392.9 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN111931449A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 程玮;朱忠华;姜立维;魏芳 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398;G06F119/18 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种版图图形密度的分析方法，包括：将数版图划分为多个网格，计算每个网格的第一局部图形密度，判断第一局部图形密度是否超过第一规格；若没有超过所述第一规格，则判断第一局部图形密度是否超出第二规格；若超出将网格标记为1，否则标记为0，集合得到第一密度矩阵；复制多个第一密度矩阵组合形成第二密度矩阵；生产晶圆时，如果晶圆异常，将异常部分对应的网格标记为1，否则标记为0形成第三密度矩阵；依次求得所有网格在第二密度矩阵的数值和第三密度矩阵的数值的乘积，若乘积为1时，则对应的网格的局部图形密度不达标。将晶圆和机台的异常考虑到版图的图形密度的分析中，可以提高后续生产时晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 图形 密度 分析 方法 | ||
【主权项】：
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