[发明专利]唑类化合物基铜箔防氧化添加剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010803205.9 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN112048721A 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 王锋;丁瑜;付争兵;张曼 申请(专利权)人: 湖北工程学院
主分类号: C23F11/10 分类号: C23F11/10
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 陈熙
地址: 432000 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于电解铜箔表面处理技术领域,具体涉及一种唑类化合物基铜箔防氧化添加剂及其制备方法。本发明所提供的唑类化合物基铜箔防氧化添加剂包括:唑类化合物、成膜助剂、表面活性剂、还原剂和水,其中,所述唑类化合物的浓度为0.1~10g/L,所述成膜助剂的浓度为0.1~5g/L,所述表面活性剂的浓度为0.1~10g/L,所述还原剂的浓度为0.1~10g/L。本发明所提供的防氧化剂不含重金属离子、无需通电、无需水洗、使用方便、安全环保,是新一代电解铜箔防氧化剂。
搜索关键词: 化合物 铜箔 氧化 添加剂 及其 制备 方法
【主权项】:
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