[发明专利]一种基于DOE的聚焦圆环光斑产生方法和系统有效
| 申请号： | 202010803658.1 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN112034627B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 彭亦超 | 申请（专利权）人： | 北京润和微光科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/48 | 分类号： | G02B27/48;G02B27/42 |
| 代理公司： | 北京华清迪源知识产权代理有限公司 11577 | 代理人： | 杜立军 |
| 地址： | 100080 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种基于DOE的聚焦圆环光斑产生方法和系统，所述方法包括：在加工衍射光学元件(DOE)时，进行连续涡旋相位曲面台阶化拟合；利用超几何函数求解涡旋相位调试后的聚焦光斑的能量分布；利用聚焦面的超几何函数分布计算聚焦光斑内外径。从而产生尺寸可控的聚焦圆环光斑。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 doe 聚焦 圆环 光斑 产生 方法 系统 | ||
【主权项】：
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