[发明专利]X光分析用试料保持装置在审
| 申请号： | 202010804679.5 | 申请日： | 2020-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN112394074A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 伊藤幸一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/20025 | 分类号： | G01N23/20025;G01N23/2204 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张宝荣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X光分析用试料保持装置，该X光分析用试料保持装置将填充有试料的试料支架(10)保持于基体构件(20)，并以包覆试料支架(10)的周围的方式向基体构件(20)装配气密构件(30)，由此形成密闭空间内的试料保持结构。在气密构件(30)形成有向装配部(21)嵌入并而被装配的嵌合部(35)。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 用试料 保持 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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