[发明专利]一种高杂光抑制比的遮光罩系统及其设计方法有效
| 申请号： | 202010804885.6 | 申请日： | 2020-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN111929967B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 范真节;廖志远;魏宏刚;赵人杰;李华;陈为;韩维强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03B11/02 | 分类号： | G03B11/02;G03B11/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高杂光抑制比的遮光罩系统及其设计方法，属于光机系统杂光抑制领域。根据系统指标要求提供的太阳规避角θ、光学系统半视场角ω和入瞳直径d，计算出遮光罩的长度L，同时为了有效抑制地气光的影响，在遮光罩前端设置了挡光板，发射时挡光板收起，进入预定轨道后挡光板张开。整个遮光罩系统包括第一挡光环、第二挡光环、第三挡光环、第四挡光环、第五挡光环、第六组挡光环、遮光罩外壳和挡光板，保证星敏感器在25度太阳规避角和30度地气光规避角能输出有效数据。该遮光罩设计方法和系统具有易加工、易装调、同时规避太阳杂散光和地气杂散光、杂光抑制比高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高杂光 抑制 遮光 系统 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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