[发明专利]星载双光栅调制型成像仪器的入射光轴标定方法有效
| 申请号： | 202010808132.2 | 申请日： | 2020-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN112129319B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 于基睿;贺应红;马小龙;徐广州;吕娟;赵意意;杨建峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01C25/00 | 分类号： | G01C25/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 唐沛 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种星载双光栅调制型成像仪器的入射光轴标定方法，其主要步骤包括：1、建立双光栅调制型成像仪器的参考坐标系；2、确定指向光学系统的镜头光轴；3、通过指向光学系统的镜头光轴，获取双光栅调制型成像仪器的入射光轴；4、确定平行光光源的位姿，确保平行光源的平行光按照双光栅调制型成像仪器的入射光轴入射；5、利用探测器记录入射光的中心位置，从而完成双光栅调制型成像仪器入射光轴的标定。该方法易于实现，精度较高，指向光学系统的重量和功耗较低，符合星载设备的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 星载双 光栅 调制 成像 仪器 入射 光轴 标定 方法 | ||
【主权项】：
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