[发明专利]真空绝热体及制造真空绝热体的装置有效

专利信息
申请号: 202010818415.5 申请日: 2016-08-02
公开(公告)号: CN111895715B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 丁元荣;尹德铉;李将石;奇亨宣 申请(专利权)人: LG电子株式会社;蔚山科学技术院
主分类号: F25D23/06 分类号: F25D23/06;B23K26/12;B23K26/21
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 付永莉;郑特强
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种真空绝热体及制造真空绝热体的装置。真空绝热体包括:第一板,具有第一温度;第二板,具有第二温度;密封件,密封所述第一板和所述第二板,以提供内部空间,所述内部空间包括主要部分和侧部,并且所述内部空间被设置为处于真空状态;以及焊接部,包括在所述密封件中;其中,焊珠被设置到所述焊接部的表面,以及其中,所述焊珠包括:转折区域,其设置在所述焊珠的一部分处;从所述转折区域的第一侧延伸的第一区域和从所述转折区域的第二侧延伸的第二区域;以及第一边缘区域和第二边缘区域,所述第一边缘区域设置在所述第一区域的与所述转折区域相对的端部处,所述第二边缘区域设置在所述第二区域的与所述转折区域相对的端部处。
搜索关键词: 真空 绝热 制造 装置
【主权项】:
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