[发明专利]真空绝热体及制造真空绝热体的装置有效
| 申请号： | 202010818443.7 | 申请日： | 2016-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN111947389B | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 丁元荣;尹德铉;李将石;奇亨宣 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社;蔚山科学技术院 |
| 主分类号： | F25D23/06 | 分类号： | F25D23/06 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 付永莉;郑特强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种真空绝热体及制造真空绝热体的装置。真空绝热体包括：第一板，具有第一温度；第二板，具有第二温度；密封件，密封所述第一板和所述第二板，以提供内部空间，所述内部空间包括主要部分和侧部，并且所述内部空间被设置为处于真空状态；以及焊接部，包括在所述密封件中；其中，所述焊接部由第一部件和第二部件提供，所述第一部件的一部分和所述第二部件的一部分彼此密封；其中，所述焊接部通过激光焊接提供，使得所述第一部件和所述第二部件通过所述激光焊接熔化。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 绝热 制造 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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