[发明专利]制造半导体器件的方法及对应的半导体器件在审

专利信息
申请号: 202010819155.3 申请日: 2020-08-14
公开(公告)号: CN112397397A 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: F·G·齐格利奥利;A·平图斯;M·德赖;P·马格尼 申请(专利权)人: 意法半导体股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/56;H01L21/48;H01L21/768;H01L23/31;H01L23/367;H01L23/485;H01L23/528;H01L23/552
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 董莘
地址: 意大利阿格*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开的各实施例涉及制造半导体器件的方法及对应的半导体器件。一种制造诸如集成电路的半导体器件的方法包括将一个或多个半导体裸片布置在支撑表面上。激光直接成型材料被成型到支撑表面上,该支撑表面上布置有一个/多个半导体裸片。在成型到其上布置有一个/多个半导体裸片的支撑表面上的激光直接成型材料上执行激光束加工,以针对布置在支撑表面上的一个/多个半导体裸片提供导电结构。设置有导电结构的一个/多个半导体裸片与支撑表面分离。
搜索关键词: 制造 半导体器件 方法 对应
【主权项】:
暂无信息
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